、工作溫度：不同的鍍膜需要不同的溫度，比如鍍金色TiN，溫度580℃。鍍銀灰色TiCN溫度是450℃。

2、工作時(shí)間：由于不同鍍膜需要的溫度不同，以致不同的鍍膜需要不同的時(shí)間來(lái)控制；

3、材料本身：產(chǎn)地、厚度、規格、內部構成化學(xué)元素、表面初始加工的相似度；

4、真空鍍膜材料：目前真空鍍膜常規材料大致有：碳化鈦、氮化鈦、碳氮化鈦等，可以滿(mǎn)足市面常規（普通）的鍍膜需要，比較的鍍膜材料有氮化鈦鋁，氮化鉻膜等，用于加工比較復雜、的顏色；

5、不同的加工環(huán)境、不同的鍍鈦爐、不同的鍍鈦技工的處理方式都會(huì )對鍍鈦結果產(chǎn)生不同程度的影響；

6、由于不銹鋼表面加工工序的復雜性，每一張板材的每一道工序是不可能控制到一致的，這就直接影響到終成品的表面色澤，這也是目前該行業(yè)技術(shù)上的一個(gè)瓶頸。

5、表面若被漂白劑或者酸附著(zhù)，立即用水沖洗，再用或中性碳酸蘇打水溶液浸洗，用中性洗滌劑或溫水洗滌。

6、表面有彩虹紋，是過(guò)多使用洗滌劑或油引起，洗滌時(shí)用溫水中性洗滌劑可洗去。

7、禁止使用含漂白成分以及研磨劑的洗滌液、鋼絲球、研磨工具等來(lái)清洗，為避免殘余洗滌液，腐蝕表面，洗滌結束時(shí)要用潔凈水沖洗表面。

8、禁止產(chǎn)品接觸強酸強堿的化學(xué)物品。

濺射技術(shù):

濺射技術(shù)按產(chǎn)生等離子體的方式可分為:

a. 利用直流輝光放電的二極濺射;

b. 利用熱絲弧光放電的三極濺射;

c. 利用射頻放電的射頻濺射;

d. 利用封閉跑道磁場(chǎng)控制輝光放電的磁控濺射.

2 磁控濺射陰極結構:

目前工業(yè)用磁控濺射裝置主要是采用矩形平面磁控濺射陰極(圖a),一般使用的靶材尺寸有兩種規格: VT機:長(cháng)×寬×厚(450.5×120×6)mm; ZCK機: 460×100×6.圓柱形磁控濺射陰極也逐步運用到生產(chǎn)當中(圖b),兩者相比,平面靶材的利用率只有20~30%,即利用率低.